在高質(zhì)量光學(xué)元件的生產(chǎn)中, 對其表面的精細清洗是重要的和必不可少的. 微粒,膜層或水的任何痕跡會造成光學(xué)元件表面缺陷,造成薄膜鍍層的粘合不良和成品的報廢.
在加工各階段, 光學(xué)元件表面會聚集層積蠟、固定用松脂, 鈰氧化物, 清漆, 玻璃粉末, 研磨冷卻劑, 指紋和空氣中的灰塵, 在整個制造過程中, 必需具有能安全清除這些沾染物的技術(shù)手段.
時代超聲已開發(fā)出一種特殊的含水清洗方法,
所以產(chǎn)生出一種下一步鍍層操作所要求的高標準清洗的玻璃鏡片.
用于光學(xué)元件的含水化學(xué)清洗液是屬于無機物基的. 它們能乳化, 彌散或溶化液體中的污垢.這些化學(xué)清洗液是精心配方的, 是為環(huán)境保護部門認可的光學(xué)鏡片清洗液的替換品. 此外, 超聲為清除難清理或粘附力強的有機物污垢增加了效率.
清除這些污垢的關(guān)鍵因素是超聲和清洗溶液的溫度. 這二個因素的有效組合會軟化和懸浮起鏡片上的污垢。
清洗光學(xué)鏡片實例
要求: 從光學(xué)鏡片上清除蠟, 松脂、清漆和其它殘留物。
以前清洗方法： 用1.1.1三氯乙烷進行溶劑或蒸氣清洗.
推薦的清洗處理方法:
清洗:
在40KHZ加熱式超聲槽內(nèi)清洗光學(xué)鏡片, 槽內(nèi)是溫度為1800F的堿性溶液.
嚴重沾污的鏡片會從采用同樣化學(xué)溶液的前置超聲清洗中獲得有效清洗. 當乳化的蠟和松脂含量高時, 推薦采用過濾處理以延長化學(xué)溶液的使用時間.
漂洗:
用1500F的熱水進行噴射漂洗. 在輸入水溫為1500F的第1漂洗工位, 用40KHZ超聲進行去離子熱水的二級串接漂洗.
為了保持最后漂洗工位所要求的純度和潔凈度, 需要對輸入水進行微米級過濾.
干燥:
從最后漂洗工位出來進行慢提拉干燥.
對某些光學(xué)器件而言, 也許需要吹熱風(fēng)再循環(huán)干燥器作為其輔助干燥方法. 為保持器件的潔凈度, 推薦采用HEPA過濾.
設(shè)備:
TIME帶有干燥器的標準形式的含水清洗系統(tǒng). 可確保重復(fù)性和一致性清洗的自動傳送系統(tǒng).
優(yōu)點:
含水清洗能比溶劑清洗產(chǎn)生更潔凈的器件.
不需要改變蠟, 松脂或清漆的規(guī)格.
在清洗和干燥處理中避免使用消耗臭氧的溶劑.
選用的閉環(huán)離子水回收利用能避免排水.
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