濺射和其它等離子體工藝所包含的壓強(qiáng)范圍均高于各類高真空泵的工作壓強(qiáng)范圍。在泵與真空室之間加一個(gè)節(jié)流閥就可將這些泵用在0.5至10Pa的范圍內(nèi)。這種具有小流導(dǎo)的節(jié)流閥，允許使高壓強(qiáng)真空室的氣體流入泵中，同時(shí)使泵的進(jìn)氣口壓強(qiáng)保持在泵的最高壓強(qiáng)或臨界進(jìn)氣口壓強(qiáng)以下，陰極直徑為150到200mm的典型濺射室的直徑為5OOmm,高為250mm。傳統(tǒng)的抽氣機(jī)組配用一臺(tái)6in的擴(kuò)散泵，但也有使用與之相當(dāng)?shù)牡蜏乇没驕u輪分子泵的，這樣大小的泵的最大排氣量為100至200Pa·L/s。泵更大，雖然價(jià)格更貴，但排除氣體的速率也更快。
濺射系統(tǒng)的殘余氣體的問題要比高真空蒸發(fā)系統(tǒng)的大得多，這一方面由于增加了壁上雜質(zhì)的等離子體解吸，另一方面由于通常的濺射淀積率要比典型蒸發(fā)率低得多。即使這兩種過程的產(chǎn)生率處于同一數(shù)量級(jí)，濺射薄膜的暴露在殘余氣體雜質(zhì)中的機(jī)會(huì)也比由蒸發(fā)源凝結(jié)的薄膜的為多。電子和離子碰撞解吸是讓氣體從真空室室壁上釋放出來的有效方法，它甚至要比輕度烘烤更為有效。在等離子體中，解吸的氣體似以原子態(tài)存在，這樣它們很容易會(huì)同濺射薄膜起反應(yīng)。
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